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OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"，并且頂部載樣臺可旋轉，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦結構太陽能電池,這是一款理想的實驗工具。
| 功能特點 |
|---|
- 由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部，兩溫度控制器進行獨立控溫
- 大升溫速率為10℃/s
- 大溫度可達800℃
- 兩樣品臺距離以及旋轉均可通過觸摸屏控制
- 頂部載樣臺可旋轉，轉速可調：1-7rpm
| 技術參數 | |
|---|---|
| 工作電壓 | AC 220V, 50/60Hz （需要50A的空氣開關） |
| 真空法蘭 | 真空法蘭為316不銹鋼制作 頂部法蘭（可通過控制盒進行上升和下降）： • 一機械壓力表 • 一KF16接口，可以安裝防腐真空計 • 兩個不銹鋼精密針閥用于氣體的進出 • 底部法蘭： • 一KF25接口，可以與真空泵相連接 • 法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封： • 真空度：20Pa（機械泵） • 真空度：10-1 Pa（分子泵）
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| 加熱元件和載樣臺 | 由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部 兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調節（觸摸屏控制），調節范圍為：2-50mm 頂部載樣臺可旋轉（觸摸屏控制），轉速：1-7rpm 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中，（不 銹鋼殼體采用316不銹鋼制作） 采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性 注：可選購5"x5"的石墨坩堝放于底部載樣臺用來盛放蒸發原料，提高溫度均勻性
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| 溫控系統 | 兩個精密的溫控系統分別獨立控制上下兩個加熱區，可設置30段升降溫程序 每個溫控系統都帶有超溫和斷偶保護 PC通訊接口，軟件可安裝，可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中 |
| 工作溫度 | MAX工作溫度為：800℃ 兩個加熱區之間的大溫差為300℃ |
| 加熱和冷卻速率 | 建議加熱速率≤ 10ºC/s（每個溫區單獨加熱） 冷卻速率> 10ºC/s (800 - 300ºC) |
| 熱電偶 | 兩個K型熱電偶，安裝在頂部和底部，都與氮化鋁陶瓷片相接觸 |
| 可選 | 此款儀器使用時需要配用一循環水冷機（58L/min) 實驗時需要一個真空泵，可與本公司選購真空泵 若要使真空腔體內達到更潔凈的工作環境，可換購無油泵 可選購質子流量計混氣系統，將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中
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| 質保 | 一年質保期，終生維護（不包括密封圈、加熱元件和石英管） |
| 產品尺寸 | 790mm × 600mm × 1100mm
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| 使用注意事項 | 爐管內氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司 選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品 加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防 意外發生（如爐管破裂，法蘭飛出等） |
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